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三星已確保3nm工藝良品率穩(wěn)定 明年量產(chǎn)

10月9日消息,據(jù)國外媒體報(bào)道,5nm芯片制程工藝已順利量產(chǎn)的臺(tái)積電和三星電子,都在全力推進(jìn)3nm工藝的量產(chǎn)事宜,以便占得先機(jī),進(jìn)而獲得更多的代工訂單。

而韓國媒體最新的報(bào)道顯示,三星電子已確保3nm制程工藝有穩(wěn)定的良品率,他們計(jì)劃在明年6月份開始量產(chǎn),代工相關(guān)的芯片。

三星電子的3nm工藝,并未繼續(xù)采用鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FinFET)技術(shù),而是采用全環(huán)繞柵極晶體管(GAA)技術(shù)。三星方面表示,采用這一工藝代工的芯片,性能較5nm將提升50%,能耗降低50%。

當(dāng)前全球最大的芯片代工商臺(tái)積電,在近幾個(gè)季度的財(cái)報(bào)分析師電話會(huì)議上,均透露他們的這一工藝在按計(jì)劃推進(jìn),據(jù)了解,臺(tái)積電計(jì)劃今年下半年風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn),明年大規(guī)模量產(chǎn)。

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